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■ Spin Devloper system

: 반도체공정 중에서 Developer(현상액)를 사용하여 자외선에 화학 반응된 Photo resist를

제거하여 미세회로 패턴을 구현하는 Photo Lithography 공정장비입니다.

■ Spin Devloper system

● 사 양

Item	Specification
Sample Size	2inch ~ 12inch
Control	PLC and Touch Panel
Process	Auto mode / Manual Mode
Moving	X step motor, Nozzle up/Down
Nozzle	Dev, DI, N²
약액 정량공급	교반압송탱크,Flow meter
옵션 : Dev 온도조절	Chiller

■ Spin Devloper and Wafer Cleaner system

● 사 양

Item	Specification
Sample Size	2inch ~ 12inch
Control	PLC and Touch Panel
Process	Auto mode / Manual Mode
Moving	X step motor, Nozzle up/Down
Nozzle	Dev, DI, N²
약액 정량공급	교반압송탱크,Flow meter
옵션 : Dev 온도조절	Chiller

■ Spin Devloper and Wafer Cleaner system

● 사 양

Item	Specification
Sample Size	2inch ~ 12inch
Control	PLC and Touch Panel
Process	Auto mode / Manual Mode
Moving	X step motor Nozzle up/Down
Nozzle	Dev, DI, N²
약액 정량공급	교반압송탱크,Flow meter
옵션 : Dev 온도조절	Chiller

■ Spray Devloper system

● 사 양

Item	Specification
Sample Size	2inch ~ 12inch
Control	PLC and Touch Panel
Process	Auto mode / Manual Mode
Moving	Y step motor Nozzle up/Down
Nozzle	Dev, DI, N²
약액 정량공급	교반압송탱크,Flow meter
옵션 : Dev 온도조절	Chiller

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